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表面测量仪器
bmclyq.ybzhan.cn仪表网旗下台阶仪在半导体材料的表征和研究中是一种非常重要的工具。如在半导体材料的制备过程中，一些关键的工艺参数，如温度、压力、气氛等条件的变化，会导致半导体材料的能带结构发生变化，通过使用台阶仪，可以准确测量和分析材料，从而了解工艺参数对材料性质的影响，及时调整工艺条件以提高制程的稳定性和一致性；又或是在半导体材料的生产过程中，常会出现掺杂不均匀、杂质含量超标等问题，这些都会导致材料的能带结构发生变化，从而影响材料的性能，通过利用台阶仪进行表征分析，可以快速检测出材料的质量问题，帮助制造商和研发人员发现和解决问题，从而提高产品质量和性能。
CP系列台阶仪是一款采用可变差动电容传感器LVDC的超精密接触式微观轮廓测量仪，具备影像导航功能的亚纳米级分辨率（0.1nm的纵向分辨率），主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。
线性可变差动电容传感器（LVDC），具有亚埃级分辨率，13um量程下可达0.01埃，满足被测件测量精度要求。高信噪比和低线性误差，使得产品能够扫描到几纳米至几百微米台阶的形貌特征。
1、1~50mg可调微测力，实现无损检测的接触式测量；
2、测量膜厚或粗糙度，不受基材透射率影像，规避光学仪器的弱点；
3、具备3D扫描和成像显示功能；
在半导体中，台阶仪的应用主要包括以下几个方面：
1. 薄膜材料厚度（2D）测量和表面形貌测量（3D）：台阶仪可以精确获得定量的台阶高度、线粗糙度、薄膜曲率半径，以及测量薄膜应力等。
2. 沉积薄膜的台阶高度测量：台阶仪可以用于测量沉积薄膜的台阶高度，这对于确保半导体芯片的质量和性能具有重要意义。
3. 抗蚀剂（软膜材料）的台阶高度测量：台阶仪可以用于测量抗蚀剂（软膜材料）的台阶高度，这对于评估抗蚀剂的性能和选择合适的抗蚀剂具有重要意义。
4. 蚀刻速率测定：台阶仪可以用于测量蚀刻速率，这对于评估蚀刻工艺的性能和优化蚀刻工艺具有重要意义。
5. 化学机械抛光（腐蚀、凹陷、弯曲）测量：台阶仪可以用于测量化学机械抛光（腐蚀、凹陷、弯曲）的效果，这对于评估化学机械抛光工艺的性能和优化抛光工艺具有重要意义。
在半导体行业中，晶圆表面的粗糙度，尤其当晶圆表面被氧化后，引起氧化层的透光性，此时采用台阶仪能够获取准确有效的数值。
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